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Next-generation lithography - an outlook on EUV projection and nanoimprint

Schoot, Jan van ; Schift, Helmut

In: Advanced Optical Technologies, 2017, vol. 6, no. 3-4, p. 159-162

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    Titel
    • Next-generation lithography - an outlook on EUV projection and nanoimprint
    Autor
    • Schoot, Jan van. ASML Netherlands BV, System Engineering and Research, De Run 6501, Veldhoven 5504 DR, The Netherlands
    • Schift, Helmut. Paul Scherrer Institut, Laboratory for Micro- and Nanotechnology (LMN), Villigen PSI 5232, Switzerland
    Dokumententyp
    • Postprint
    Sprache
    • Englisch
    Veröffentlicht in
    • Advanced Optical Technologies, 2017, vol. 6, no. 3-4, p. 159-162. De Gruyter
    Andere elektronische Ausgabe
    OAI-PMH-ID
    • oai:doc.rero.ch:332782